Back
Półmaska Dräger X-plore® 4700
Maska bez kompromisów: Dräger X-plore® 4700 jest wytrzymałą, bardzo wygodną, świetnie przylegającą, szczelną półmaską z jednym filtrem spełniającą najwyższe wymagania.
Zalety półmaski Dräger X-plore® 4700:
- Pierwsza klasa komfortu noszenia
Połączenie wyjątkowo miękkiego korpusu maski ze specjalnie ukształtowanym miejscem na nos utrzymywanym na miejscu przez twardą, plastikową osłonę zapewnia precyzyjne przyleganie, dobre właściwości szczelne oraz niemal bezuciskowe noszenie.
- Wybór pomiędzy dwoma materiałami wysokiej jakości
Masz wybór: TPE dla skóry normalnej oraz silikon dla skóry wrażliwej. Wersja silikonowa jest dostępna w dwóch rozmiarach i pasuje do różnych kształtów twarzy.
- System spustowy
Proste otwarcie zapięcia nakarcznego uprzęży pozwala na łatwe zdjęcie maski bez zdejmowania hełmu. Ustawiona w “pozycji gotowości” maska wewnętrzna przylega do korpsu użytkownika i jest chroniona przed zabrudzeniami.
- Opcjonalnie z elastyczna uprzężą
Jako alternatywa do klasycznej uprzęży nagłownej dostępna jest również uprząż elastyczna X-plore® 4700 EH (elastic harness – uprząż elastyczna). Jest ona wykonana z wytrzymałego, odpornego na niektóre substancje chemiczne materiału. Jest bardzo łatwa do czyszczenia i może być noszona pod różnymi typami hełmów. Każdy użytkownik może indywidualnie wybrać, który typ uprzęży najlepiej nadaje się do jego zastosowań.
- Wyjątkowa wytrzymałość
Szczególną zaletą maski Dräger X-plore® 4700 jest jej twardość. Otaczająca ją plastikowa osłona oraz trwały korpus maski czynią ją wytrzymałą i trwałą.
- Uprząż “FlexiFit” do szybkiego zakładania i dopasowania
Nowy gładki materiał zapewnia doskonałe dopasowanie do głowy i nie wplątuje się we włosy. Tak miękki, że nawet go nie poczujesz pod hełmem.
- Dwa rodzaje przyłączy filtra
Standardowe przyłącze gwintowane Rd40 zgodne z normą EN 148-1 albo gwint specyficzny Dräger do filtrów Dräger X-plore® Rd90 pozwalają na szeroki zakres zastosowań z odpowiednimi filtrami cząsteczek, gazów lub filtrami kombinowanymi.
